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雙面光罩對準曝光儀(Aligner)

簡稱 Aligner
機台編號 PISC005
中文名稱 雙面光罩對準曝光儀(Aligner)
英文名稱 Double Side Mask Aligner
功能說明 高解析之半導體元件與積體電路之曝光儀器
儀器服務項目 含晶片coating光阻、光阻去除、顯影、HMDS coating、光罩對準、晶片紫外曝光。Expouse Mode:Soft contact、Hard contact、Proximity。
儀器購置日期 1999-03-18 00:00:00
儀器購置金額 0
儀器廠牌 德國Karl Suss
型號 MA6
儀器規格 Power supply:CIC1000 Lamp Power:Max. 350W Exposure:UV400 Wave length:365~405nm
主要配件,配件
儀器放置位置 資424
注意事項 1.試片尺寸:Max. 4"。 2.光罩尺寸:5"×5"。